Vékony - C, N, CNx és CSix felületi rétegek létrehozása és jellemzése elektronspektroszkópiai és mikroszkópiai módszerekkel

Kovács, Imre ORCID: https://orcid.org/0000-0003-2014-678X (2019) Vékony - C, N, CNx és CSix felületi rétegek létrehozása és jellemzése elektronspektroszkópiai és mikroszkópiai módszerekkel. DUNAKAVICS, 7 (10). pp. 21-31. ISSN 2064-5007

Text Online_1910.pdf - Published Version Available under License Creative Commons Attribution Non-commercial No Derivatives. Download (36MB)

Abstract

: Felületek mechanikai és korróziós védelmére szokás kialakítani védőréteget. Széntartalmú kiindulási anyagok alkalmazásával vákuumkamrában grafitos, nanogyémánt (DLC) vagy ezek vegyes rétegei jöhetnek létre. Nitrogén tartalmú molekulákból (N2, NH3) kiindulva nitrid rétegek alakulhatnak ki. A két elem – C és N – együttes alkalmazását egy elméleti számítás motiválta. Ha az ún. fázis alakul ki akkor az a gyémántnál is keményebb réteg lehet. Kísérleteinkben grafit, N2, szilikon tartalmú vákuumolaj – pentafenil-trimetil-trisziloxan molekulákból hoztunk létre felületi rétegeket Si(100), KCl avagy csillám lapokon. A mintákat egy másik vákuumkészülékben röntgenfotonelektron spektroszkópiai (XPS), pásztázóelektron (SEM), atomierő (AFM) és pásztázó alagút mikroszkópiai (STM) valamint infravörös spektroszkópi módszerekkel vizsgáltuk. Az eredményeinket összehasonlítjuk a más fémegykristályok felületein egyéb módszerekkel létrehozott rétegek jellemző elektronspektroszkópiai adataival és a felhasználási lehetőségeivel

Item Type:	Article
Uncontrolled Keywords:	Eeximer lézer; XPS; Plazma; Vákuumolaj; Infravörös spektroszkópia; Eximer laser; XPS; Plazma; vacuumoil; Infrared spectroscopy
Divisions:	Műszaki Intézet
Depositing User:	Gergely Beregi
Date Deposited:	16 Apr 2021 13:32
Last Modified:	16 Apr 2021 13:32
URI:	http://publication.repo.uniduna.hu/id/eprint/692
MTMT:	30850035

Actions (login required)

View Item